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真空旋转涂膜机适用于半导体工艺晶体光盘制版及表面涂覆等工艺

发布时间:2018-01-08 02:57:07 分类:技术文章 来源: 点击:

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真空旋转涂膜机适用于半导体工艺、晶体、光盘、制版及表面涂覆等工艺

真空旋转涂膜机|真空旋转涂膜器型号:DLTC-200P 货号:ZH10250产品简介:本机适用于半导体工艺、晶体、光盘、制版及表面涂覆等工艺,使用于耐强酸、强碱涂覆溶液。产品特点本机样件固定采用真空吸附,使样件取放自如,灵活简单,易于操作,配合定位工具使用,是样件很容易放在中心位置,以减少偏心带来的震动和造成飞片。根据样件的规格可以更换不同的吸盘,更换方便简单。真空度最大可以达到-0.08MPa。电机转数稳定启动快,可以保证涂层厚度的一致性和均匀。技术参数速度调整:二段均可以在500-8000rpm之间任意调整时间调整:二段均为1-60秒功 率:220V 200W外形尺寸:φ250×290mm重量:25Kg标准配件真空吸盘 4只O型圈 4个滴胶注射器 1支注射器支架 1个内六角扳手 1套无油真空泵 1个

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